蘇州三巖芯電子科技有限公司

ORC-2000曝光機(jī)維修SCHMID迅得機(jī)器維修EXP-2021 EXP-2050 EXM-1350
蘇州維修曝光機(jī)iai驅(qū)動(dòng)器維修，無(wú)法回原點(diǎn)報(bào)警維修 維修IAI控制器 IAI伺服12EX-35-700
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蘇州維修曝光機(jī)iai驅(qū)動(dòng)器維修，無(wú)法回原點(diǎn)報(bào)警維修原點(diǎn)傳感器
 
曝光機(jī)
· ORC 手動(dòng)5KW 平行曝光機(jī) EXM-1201-F
· ORC 手動(dòng)5KW 曝光機(jī)HMW-201B-5K
· ORC 手動(dòng)7KW 曝光機(jī) HWM-680-GW
· ORC SOLDER MASK自動(dòng)曝光機(jī)Model:EXP-2001B
· ORC 外層自動(dòng)曝光機(jī)Model:EXP-2050
· ORC 內(nèi)層乾膜5KW平行自動(dòng)曝光機(jī) Model:EXM-2010-B-A
· ORC 內(nèi)層濕膜7KW散射光自動(dòng)曝光機(jī) Model:EXM-2010-B-S
· ORC 外層半自動(dòng)CCD自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī) Model:EXP-2951
· ORC 防焊半自動(dòng)CCD對(duì)位曝光機(jī) Model:EXP-2950
 
ORC 5KW 平行光手動(dòng)曝光機(jī)EXEM-1201-F
特性簡(jiǎn)介：
1. 適用於乾膜細(xì)線路曝光用。
2. 平行光光源，平行半角2.5°，傾斜角2.5°實(shí)現(xiàn)高解析度。
3. 採(cǎi)用雙框，兩面一次曝光，產(chǎn)能高。
4. 採(cǎi)用ORC專利之能量控制器，實(shí)現(xiàn)高穩(wěn)定之曝光。
5. 使用單燈，兩面曝光，生產(chǎn)成本較低。
 
ORC手動(dòng) 5KW HMW-201B-5K 曝光機(jī)
特性簡(jiǎn)介：
1. 採(cǎi)用5KW燈管，適用於乾膜線路曝光之曝光機(jī)。
2. 採(cǎi)用雙框、雙面同時(shí)曝光系統(tǒng)及高均勻度反射罩， 實(shí)現(xiàn)高解析度及高信賴度之生產(chǎn)品質(zhì)。
3. 有效曝光面積24"×32"。
4. 全機(jī)封閉式設(shè)計(jì)，不會(huì)影響工作環(huán)境。
5. 上下燈共有八組獨(dú)立之能量控制。適用於多種不同乾墨能量之設(shè)定。
6. 採(cǎi)用ORC專利之能量控制器，確保高穩(wěn)定性信賴度之生產(chǎn)良率。
 
ORC 手動(dòng) 7KW HMW-680-GW 曝光機(jī)
特性簡(jiǎn)介：
1. 採(cǎi)用7KW高照度燈管，適用於乾膜防焊及溼墨防焊油墨之曝光使用。
2. 採(cǎi)用雙框、雙面同時(shí)曝光系統(tǒng)，及高照度燈管高反射率反射罩，實(shí)現(xiàn)高照度30mw/cm2以上 ，高均勻度80%以上高產(chǎn)能之要求。
3. 有效曝光面積24"×32"。
4. 高效率冷凍系統(tǒng)設(shè)計(jì)，內(nèi)建恆溫控制器，不斷偵測(cè)曝光室溫度變化，藉由PLC控制，
達(dá)到恆溫控制維持曝光室、曝光檯面之溫度，確保底片即板子不受溫度變化影響，提高生產(chǎn)良率。
5. 全機(jī)封閉式設(shè)計(jì)，確保不會(huì)影響工作環(huán)境。
6. 以下燈共有八組獨(dú)立的能量控制，適用於多種不同油墨及能量之設(shè)定。
7. 具ORC專利之能量控制器，確保高穩(wěn)定性、高信賴度之生產(chǎn)良率。
 
 
ORC SOLDER MASK自動(dòng)曝光機(jī) Model: EXP-2001B
特性簡(jiǎn)介：
1. 高照度、高產(chǎn)能。利用高反射率反射鏡、光學(xué)玻璃10KW燈管。
2. 高對(duì)位精度。利用CCD對(duì)位系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)位精度±10um。
3. 高良率設(shè)計(jì)。利用CCD對(duì)位系統(tǒng)。實(shí)現(xiàn)曝光前對(duì)位精度確認(rèn)，實(shí)現(xiàn)100%對(duì)位曝光良率之保證。
4. 實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化設(shè)計(jì)?？赏饨油栋鍣C(jī)收板機(jī)及其他製程完全連線搭配。
5. 恆溫控制。具曝光玻璃及板溫控制系統(tǒng)，減少油墨軟化之不良產(chǎn)生。實(shí)現(xiàn)高安定性之曝光環(huán)境。
6. 實(shí)現(xiàn)低成本高效率生產(chǎn)。採(cǎi)用高透光性光學(xué)玻璃，實(shí)現(xiàn)低成本之生產(chǎn)效率。
7. 操作簡(jiǎn)易。採(cǎi)用LCD TOUCH PANEL，內(nèi)建中文對(duì)答式操作系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)高效率簡(jiǎn)易操作。
 
 
ORC 外層自動(dòng)曝光機(jī) Model EXP-2050
特性簡(jiǎn)介：
1. 高解析度。利用平行光，可實(shí)行線寬線距60um之解析度 。
2. 高照度、高產(chǎn)能。最大產(chǎn)量19secs/pnl。
3. 高對(duì)位精度。利用CCD對(duì)位系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)位精度±10um。
4. 高良率設(shè)計(jì)。利用CCD對(duì)位系統(tǒng)。實(shí)現(xiàn)曝光前對(duì)位精度確認(rèn)，實(shí)現(xiàn)100%對(duì)位曝光良率之保證。
5. 實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化設(shè)計(jì)。可外接投板機(jī)及收板機(jī)。
6. 恆溫控制。並可加裝恆溫控制及自動(dòng)底片清潔裝置，HAPA空氣濾清系統(tǒng)，提高高穩(wěn)定性，信賴性的曝光工作環(huán)境。
7. 機(jī)臺(tái)體積小，不站空間。
8. 單燈雙框公用系統(tǒng)，提高光源使用率至96%以上，減少生產(chǎn)成本。
9. 利用高反射率反射鏡，實(shí)現(xiàn)高平行度之平行光。
10. 操作簡(jiǎn)易。採(cǎi)用LCD TOUCH PANEL，內(nèi)建中文對(duì)答式操作系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)高效率簡(jiǎn)易操作。
 
 
ORC內(nèi)層乾膜自動(dòng)曝光機(jī)5KW平行光5KW EXM-2010-BA
ORC內(nèi)層濕膜自動(dòng)曝光機(jī)散射光7KW EXM-2010-BS
 
ORC外層半CCD自動(dòng)曝光機(jī) EXP-2951
ORC防焊半CCD自動(dòng)曝光機(jī) EXP-2950 
曝光機(jī)
· ORC 手動(dòng)5KW 平行曝光機(jī) EXM-1201-F
· ORC 手動(dòng)5KW 曝光機(jī)HMW-201B-5K
· ORC 手動(dòng)7KW 曝光機(jī) HWM-680-GW
· ORC SOLDER MASK自動(dòng)曝光機(jī)Model:EXP-2001B
· ORC 外層自動(dòng)曝光機(jī)Model:EXP-2050
· ORC 內(nèi)層乾膜5KW平行自動(dòng)曝光機(jī) Model:EXM-2010-B-A
· ORC 內(nèi)層濕膜7KW散射光自動(dòng)曝光機(jī) Model:EXM-2010-B-S
· ORC 外層半自動(dòng)CCD自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī) Model:EXP-2951
· ORC 防焊半自動(dòng)CCD對(duì)位曝光機(jī) Model:EXP-2950
· ORC 1，2，3，4，6分割露光裝置 外層/綠漆 Model:EXP-2021
· ORC 垂直式投影露光裝置 Model:EXP-2330
 
ORC 5KW 平行光手動(dòng)曝光機(jī)EXM-1201-F
特性簡(jiǎn)介：
1. 適用於乾膜細(xì)線路曝光用。
2. 平行光光源，平行半角2.5°，傾斜角2.5°實(shí)現(xiàn)高解析度。
3. 採(cǎi)用雙框，兩面一次曝光，產(chǎn)能高。
4. 採(cǎi)用ORC專利之能量控制器，實(shí)現(xiàn)高穩(wěn)定之曝光。
5. 使用單燈，兩面曝光，生產(chǎn)成本較低。
 
 
ORC手動(dòng) 5KW HMW-201B-5K 曝光機(jī)
特性簡(jiǎn)介：
1. 採(cǎi)用5KW燈管，適用於乾膜線路曝光之曝光機(jī)。
2. 採(cǎi)用雙框、雙面同時(shí)曝光系統(tǒng)及高均勻度反射罩， 實(shí)現(xiàn)高解析度及高信賴度之生產(chǎn)品質(zhì)。
3. 有效曝光面積24"×32"。
4. 全機(jī)封閉式設(shè)計(jì)，不會(huì)影響工作環(huán)境。
5. 上下燈共有八組獨(dú)立之能量控制。適用於多種不同乾膜能量之設(shè)定。
6. 採(cǎi)用ORC專利之能量控制器，確保高穩(wěn)定性信賴度之生產(chǎn)良率。
 
ORC 手動(dòng) 7KW HMW-680-GW 曝光機(jī)
特性簡(jiǎn)介：
1. 採(cǎi)用7KW高照度燈管，適用於乾膜防焊及溼膜防焊油墨之曝光使用。
2. 採(cǎi)用雙框、雙面同時(shí)曝光系統(tǒng)，及高照度燈管高反射率反射罩，實(shí)現(xiàn)高照度30mw/cm2以上 ，高均勻度80%以上高產(chǎn)能之要求。
3. 有效曝光面積24"×32"。
4. 高效率冷凍系統(tǒng)設(shè)計(jì)，內(nèi)建恆溫控制器，不斷偵測(cè)曝光室溫度變化，藉由PLC控制，
達(dá)到恆溫控制維持曝光室、曝光檯面之溫度，確保底片即板子不受溫度變化影響，提高生產(chǎn)良率。