半導(dǎo)體組件,用于在化學(xué)機(jī)械拋光  (CMP)  設(shè)計(jì)的  Tecatron CMP  和
Tecapeek CMP  產(chǎn)品線,這些零件對(duì)力學(xué)性能和耐化學(xué)性的高性能塑料很高的要求。各種拋光用劑在  CMP  過(guò)程中,這種新的聚苯硫醚塑料Tecatron CMP  顯示更高的耐磨損和磨損抗性比以前的產(chǎn)品。有關(guān)特定材料的抗化學(xué)藥品和溶劑,這些摩擦學(xué)的好處增加塑料元件的壽命,在制造的過(guò)程減少了停機(jī)時(shí)間片成本。 
      極端的機(jī)械載荷可以通過(guò)特殊的拋光使用發(fā)生。Tecapeek CMP的理想材料是在這些條件下。這種新的  Ensinger PEEK產(chǎn)品特點(diǎn)是韌性和尺寸穩(wěn)定性的不唯一的而且也很好的耐磨損和磨損抗性。配合高耐化學(xué)性,此優(yōu)異的力學(xué)和摩擦學(xué)性能提供特別長(zhǎng)的使用壽命。
 
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