滄州銘哲環(huán)保機械設(shè)備制造有限公司

等離子光氧一體機凈化器去除污染物過程 等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。等離子體技術(shù)目前采用的有四類技術(shù)，介質(zhì)阻擋放電（雙介質(zhì)、單介質(zhì)）、放電（金屬、纖維）、板式放電、微波放電，實際應(yīng)用也有采用組合模式。 除臭過程是經(jīng)過預(yù)過濾的廢氣被導入高濃度離子氧發(fā)生區(qū)域，與離子氧群混合，離子氧群將致臭污染物降解成二氧化碳和水以及其它小分子，經(jīng)過凈化后的空氣通過通風管道排入到大氣中。它的除臭特點是處理效率高；可靠、能耗低；純物理法原理；設(shè)備全自動運行；體積小、自重輕；成套設(shè)備，安裝方便等等一些特點。 等離子體去除污染物的基本過程 過程一：電子的直接轟擊。 過程二：O原子或臭氧的氧化。 過程三：OH自由基的氧化。 過程四：分子碎片+氧氣的反應(yīng)。 mzhbjxsb/gydlzytj/gydlzytj.html