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磁控濺射鍍膜技術 用幾十電子伏或更高動能的荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而濺出進入氣相，這種濺出的，復雜的粒子散射過程稱為濺射。濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來達到制取各種膜層的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術。在與靶表面平行的方向上施加磁場，利用電場和磁場相互垂直的磁控管原理減少了電子對基底的轟擊，有效降低了基底溫度，使高速濺射成為可能。 深圳回收磁控鍍膜機，價格合理，上門回收